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Intel拿下首批全新EUV光刻機 單價超3億美元

來源：快科技

1月19日，全球光刻機巨頭ASML公布了最新的財報，其2021年第4季度及2021全年業(yè)績均創(chuàng)歷年新高且優(yōu)于預期。

ASML還宣布其2022年一季度，其第二代高數(shù)值孔徑（High-NA）光刻機TWINSCAN EXE:5200獲得了首個訂單，這也意味著這款可以被用于2nm芯片制造光刻機的有望在2024年交付。

2021年營收186億歐元，毛利率高達52.7%根據(jù)財報顯示，ASML 2021年第4季營收為49.86億歐元，凈利潤為17.74億歐元，毛利率達54.2%。新增訂單金額為70.50億歐元。

2021年全年營收達186.11億歐元（同比增長35%），凈利潤為58.83億歐元，毛利率為52.7%。2021年全年新增訂單為262.40億歐元，其中一半來自于EUV光刻機。

溫彼得表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的訂單。自2018年以來，ASML已經(jīng)收到四份TWINSCAN EXE:5000的訂單。

據(jù)了解，EXE:5000主要面向的是3nm工藝，而第二代的0.55 NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200將會被用于2nm工藝的生產(chǎn)。

021年出貨了42臺EUV光刻系統(tǒng)2021年ASML來自光刻系統(tǒng)方面的營收為136.53億歐元，總共銷售了287臺光刻系統(tǒng)。

具體的銷量方面，EUV光刻系統(tǒng)42臺，貢獻了約63億歐元，銷售額占比高達46%；ArFi光刻系統(tǒng)81臺，銷售額占比36%；ArF光刻系統(tǒng)131臺，銷售額占比10%；i-Line光刻系統(tǒng)33臺，銷售額占比1%。

從銷售的光刻系統(tǒng)的最終用途來看，70%被用于邏輯半導體制程，30%被用于存儲芯片的制造。

從光刻系統(tǒng)最終出貨地來看，中國臺灣地區(qū)貢獻的銷售額占比高達44%，韓國占比35%，中國大陸占比16%。

溫彼得表示：“2021年ASML的EUV出貨量增長并不高，這主要是由于我們在第三季度宣布的物流中心和供應鏈問題影響的結果。但這完全由EUV光刻機的安裝及升級等基礎收入補償了，特別是我們能夠向客戶提供的生產(chǎn)力升級。我們的客戶急需額外的容量，需求量很大。這部分的銷售額為15億歐元。在我們稱之為生產(chǎn)力提升包的推動下，安裝了大量選項，為客戶提供了額外的晶圓容量。”

DUV 業(yè)務方面，ASML表示，XT:860N 已于 2021 年底交付給其第一個客戶。這種 KrF 系統(tǒng)提供了更好的性能和更低的成本。2022年，隨著 NXT:870 的引入，ASML將把 KrF 添加到 NXT 平臺中，使其能夠在生產(chǎn)率和擁有成本方面邁出重要的一步，并在 ArFi 和 ArFDry 中構建這個平臺上的現(xiàn)有經(jīng)驗。

應用業(yè)務方面，首款 eScan1100 多束檢測系統(tǒng)計劃在未來幾周內(nèi)交付，該系統(tǒng)是專為大批量生產(chǎn)設計的。由于采用了 25 束（5x5），預計 eScan1100 與單一電子束檢測工具相比，可增加 15 倍的吞吐量，用于目標在線缺陷檢測應用。

單價超3億美元，TWINSCANEXE:5200已接獲首個訂單

由于EUV光刻系統(tǒng)中使用的極紫外光波長（13nm）相比DUV 浸入式光刻系統(tǒng)（193 nm）有著顯著降低，多圖案 DUV 步驟可以用單次曝光 EUV 步驟代替。可以幫助芯片制造商繼續(xù)向7nm及以下更先進制程工藝推進的同時，進一步提升效率和降低曝光成本。

自2017年ASML的第一臺量產(chǎn)的EUV光刻機正式推出以來，三星的7nm/5nm工藝，臺積電的第二代7nm工藝和5nm工藝的量產(chǎn)都是依賴于0.55 數(shù)值孔徑的EUV光刻機來進行生產(chǎn)。

目前，臺積電、三星、Intel等頭部的晶圓制造廠商也正在大力投資更先進的3nm、2nm技術，以滿足高性能計算等先進芯片需求。而3/2nm工藝的實現(xiàn)則需要依賴于ASML新一代的高數(shù)值孔徑 (High-NA) EUV光刻機EXE:5000系列。

ASML目前正在開發(fā)當中的高數(shù)值孔徑 (high-NA) EUV光刻機是基于0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的迭代產(chǎn)品，其具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米，而現(xiàn)有的0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的分辨率為 13 納米，使得芯片制造商能夠生產(chǎn)3/2nm及以下更先進制程的芯片，并且圖形曝光的成本更低、生產(chǎn)效率更高。

但是，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)造價相比第一代的EUV光刻機也更高。據(jù) KeyBanc 稱，一臺0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的成本預計為3.186億美元，而目前正在出貨的EUV光刻系統(tǒng)則為1.534億美元。

值得注意的是，ASML總裁兼CEO溫彼得透露，在2021年第四季度，ASML獲得的價值為70.50億歐元的新增訂單當中，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)和0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的訂單金額就達到了26億歐元。

溫彼得表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的訂單。自2018年以來，ASML已經(jīng)收到四份TWINSCAN EXE:5000的訂單。據(jù)了解，EXE:5000主要面向的是3nm工藝。而第二代的0.55 NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200將會被用于2nm工藝的生產(chǎn)。

溫彼得透露，在2022年初，ASML已收到了下一代的TWINSCAN EXE:5200的第一份訂單，這標志著ASML在引入 0.55 NA EUV光刻的道路上又邁出了一步。

根據(jù)ASML的路線圖，TWINSCAN EXE:5000將會在今年下半年出貨，每小時可生產(chǎn)185片晶圓。而TWINSCAN EXE:5000將會在2024年底出貨，每小時可廠商超過220片晶圓。

在2021年7月底的“Intel加速創(chuàng)新：制程工藝和封裝技術線上發(fā)布會”上，Intel已宣布將在2024年量產(chǎn)20A工藝（相當于臺積電2nm工藝），并透露其將率先獲得業(yè)界第一臺High-NA EUV光刻機。ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機的首份訂單正是來自于Intel。

ASML總裁兼首席技術官Martin van den表示，Intel對ASML在High-NA EUV技術的遠見和早期承諾證明了對摩爾定律的不懈追求。與目前的EUV系統(tǒng)相比，ASML的擴展EUV路線圖以更低的成本、時間周期和架構等方面提供了持續(xù)的改進，這將推動芯片行業(yè)未來十年發(fā)展的動力所在。

對于Intel來說，搶先獲得ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機，也正是Intel篤定其制程工藝能夠超越臺積電、三星重回領先地位的關鍵。

不過，臺積電和三星此前應該也在爭奪Hight NA EUV光刻機。去年10月初，三星在10月初初已宣布，將在2022年上半年量產(chǎn)3nm工藝，并計劃在2025年搶先臺積電量產(chǎn)2nm。

為此，有消息顯示，三星也在緊急搶購一臺Hight NA EUV光刻機，并要求ASML直接拉到三星工廠內(nèi)進行測試。

另外，臺積電在此前的法說會上也對外，2025年臺積電2nm制程不論是密度或是效能，都將是最領先的技術。

柏林工廠火災不會影響2022年出貨

今年1月3日，ASML位于德國柏林的一座工廠發(fā)生火災，大火在當晚被撲滅，沒有人員在火災中受傷。

資料顯示，ASML德國柏林工廠是一座零部件工廠，主要生產(chǎn)晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡模塊等DUV和EUV光刻機所需的零部件。

隨后，ASML在官網(wǎng)上表示，火災后DUV光刻機零部件的生產(chǎn)部分中斷，但很快生產(chǎn)已經(jīng)恢復，預計他們將以一種不會影響DUV光刻機產(chǎn)量和收入計劃的方式進行補救。另外，柏林工廠火災還影響到了EUV光刻機一個零部件的生產(chǎn)區(qū)域，恢復計劃仍在進行中，他們已決定采取相關的措施，將對EUV光刻機客戶、產(chǎn)出計劃及服務的潛在影響降到最低。

在此次的財報會議上，溫彼得表示，柏林工廠火災在幾個小時內(nèi)就已被撲滅，但仍然有重大損失。對于DUV光刻機，雖然有一些初始干擾，但其認為不會對2022年的產(chǎn)量產(chǎn)生任何影響。另外，EUV光刻機所需的晶圓鉗的生產(chǎn)受到了影響，這是一個非常復雜但非常重要的模塊。但通過我們的努力，相信能夠應對這種情況，我們認為不會看到對我們的EUV光刻機的2022年的產(chǎn)量生產(chǎn)大的影響。

2022年一季度營收約為33-35億歐元

ASML也公布2022年第一季財測，預估營收凈額約為33億到35億歐元之間，毛利率約49%。ASML預計一季度研發(fā)成本約為7.6億歐元，SG&a成本約為2.1億歐元。

ASML總裁兼CEO溫彼得表示：“第一季度凈銷售額指導值較低的原因是大量快速發(fā)貨，使得約20億歐元的預計收入將從第一季度轉(zhuǎn)移到隨后的季度。而去年四季度快速發(fā)貨推遲到今年一季度確認的金額約為3億歐元。”

“客戶對于光刻系統(tǒng)的需求超過了我們的生產(chǎn)能力所能滿足的范圍。終端市場的強勁需求，給我們的客戶帶來了增加晶圓產(chǎn)量的壓力。為了支持我們的客戶，我們?yōu)樗麄兲峁┝烁呱a(chǎn)率升級解決方案，并縮短了我們工廠的生產(chǎn)周期以交付更多的光刻系統(tǒng)。減少交付周期時間的一種方法是，通過快速裝運過程，跳過我們工廠的一些測試。最終測試和正式驗收將在客戶現(xiàn)場進行，通常驗收程序需要幾周的時間（有時三到四周）。這雖然將導致這些發(fā)貨的收入延遲確認，直到客戶正式接受，但這確實為我們的客戶提供了更早獲得增加晶圓輸出能力的機會。”溫彼得進一步解釋到。

2022年營收預計增長20%

對于2022全年的業(yè)績預期，ASML也比較樂觀的認為會保持同比約20%左右的營收增長。

“2022年將是一個好年頭。與2021相比，我們預計增長率約為20%。這是一個很好的數(shù)字，因為你必須考慮到我們在2022年年底前也會有一些‘快速發(fā)貨’，導致部分收入轉(zhuǎn)移到2023年確認。我們目前認為2020年年底大約有六個EUV系統(tǒng)將被快速裝運發(fā)貨。如果將延遲確認的收入加上，那么2022年的營收將同比增長25%左右。”溫彼得說到。

2022年將出貨55臺EUV光刻機

對于2022年的EUV光刻機的出貨量，ASML預計將會達到55臺。正如起前面提到到的，其中約有6臺的收入將會推遲到2023年確認。另外，預計2023年EUV光刻機的出貨量將增長到60臺。

在DUV光刻機業(yè)務方面，ASML認為，DUV光刻機的出貨2022年將會尤其強勁。因為它涉及了所有行業(yè)，包括存儲和邏輯芯片制造。特別是芯片的持續(xù)短缺導致了對DUV光刻機的強烈需求。

溫彼得預測，“與2021年相比，2022年我們的DUV光刻機業(yè)務可能會有大約20%的增長。”

另外，在安裝基礎選項方面，溫彼得也表示，2021年有一個非常強勁的增長，客戶對于安裝基礎選項的需求增加了很多，以增加更多的晶圓產(chǎn)量，ASML仍然預計2022年這塊仍將增長約10%。

標簽： EUV光刻機 訂單金額 光刻系統(tǒng) EUV出貨量

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